陸媒渲染光刻機重大突破？業界專家駁斥：假的！美中科技角力下，各國管制光刻機出口中國，近期陸媒卻高調宣傳，成功製作出13.5奈米的極紫外光技術，宣揚「國產EUV光刻機重大突破」，但業內人士，直接反駁。2025年07月22日 環球直擊-午間
中國EUV研發難突破 高端芯片難產中國芯片大廠產品經理易先生：「我們國內最先進的製程目前是沒有能力，問題在於光刻機是太難突破了，中芯國際7奈米的產能，滿足華為都不夠，7奈米的良率現在也就是徘徊在五成左右，做到5奈米，良率超級低。其它芯片公司一般都是在做12奈米或14奈米的，良率也不行。」2025年05月27日 環球直擊-午間
