【新唐人北京時間2026年04月13日訊】美東4月8日發布, 本次國家實驗室探索系列網路研討會重點介紹了勞倫斯·利弗莫爾國家實驗室在基於超透鏡的雙光子光刻(TPL)技術方面取得的突破性進展。新唐人、大紀元進行網絡重播,即時翻譯字幕。
這新一代積層製造平台利用超過12萬個可獨立定址的聚焦光斑,能夠大規模並行製造複雜的多尺度三維微結構。這項創新在顯著提高吞吐量的同時,保持了高精度,為微電子、量子裝置、聚變能源系統和其他先進技術應用開闢了新的可能性。
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